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一、方案主题

化学机械抛光液(CMP)是近年来处于前端的研磨抛光方式,大致有二氧化硅抛光液,氧化铈抛光液,氧化铝抛光液等等常见材料。当金属材料抛光至镜面效果时,抛光液在物理和化学同时作用下,在基材上面形成顽固的固体残留物。尤其是使用纳米二氧化硅(硅溶胶)抛光过的铝合金高光镜面,在抛光液干涸在基材表面,已经是业界头等清洗难题。远岸金属清洗剂,用水性分散原理,解决行业抛光液残留的棘手问题。


二、设计原则

通过自动化超声波设备,加上远岸抛光液残留水性清洗剂,在不腐蚀材料的基础上,最高效率的批量化清洗镜面材料上的残留抛光液。


三、现场分析

很多研磨抛光加工单位,使用一下不佳的清洗剂,要不是清洗不了抛光液残留物,就是能清洗干净,但金属(铝合金)高光镜面效果被破坏,在没有更合适的办法下,停留在手工清洗高光镜面加工件,效率低下,对员工身体,环境都不利,无法实现现代化生产要求。


四、建议使用远岸金属清洗剂JY-1257,JY-6004有以下优点;

1,环保安全,点火不燃

2,适合规模化生产,超声波设备批量清洗,提高生产效率

3,降低人工成本,清洗剂成本

4,清洗速度快,高光镜面效果保护性好


五 、推荐使用   远岸金属清洗剂  抛光液残留清洗剂1257 6004


六、细则


1257清洗剂 漂洗6004超声波清洗漂洗
5%溶液超声波清洗时间:3~5min
时间:3~5min温度:50~60℃时间:3~5min
温度:50~60℃
漂洗烘干
包装入库


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